道明光学三项光学技术专利到期失效区域

道明周三晚间公告称，该公司一项带微棱镜阵列结构的反光材料模具制作方法于近日收到国家知识产权局颁发发明专利证书。

公告显示，道明光学累计获得授予专利 2项，近期两项实用新型专利高光高亮反光布、反光防伪标贴和一项外观设计专利反光膜（高等级公路标识用）因专利权期限到期，专利已失效。截至目前，公司有尚在有效期内的已授予专利29项。

该公司称，上述发明专利证书的取得，有利于发挥自主知识产权优势，形成持续创新机制，保持技术的领先，提升核心竞争力。但不会对公司近期生产经营产生重大影响。